適用於Low-K（低介電常數）介質及常規介質材料的刻蝕工藝。並可擴展到存儲領域的CMOS (互補金屬氧化物半導體)相關製程 ，近光算谷歌seo光算谷歌广告日，Contact (接觸孔)為代表的關鍵介質刻蝕製程，該機台主要覆蓋邏輯光算谷歌seo光算谷歌广告領域多個技術節點中以AIO (雙大馬士革刻蝕工藝)、 （文章來源：證券時報）北方華創正式發布光算谷歌广光算谷歌seo告新品——12英寸電容耦合等離子體介質刻蝕機Accura LX，